Kousinen polisaj yo se Pwodwi pou Telefòn kle ki detèmine bon jan kalite sifas nan gaufre nan pwosesis la chimik mekanik polisaj (CMP). Yo sitou konpoze de materyèl tankou kim an poliyiretàn, ki gen mikwostrikti ki pore ak gwo rezistans mete. Fonksyon debaz li yo gen ladan transfè inifòm nan presyon, depo likid polisaj, ak retire résidus reyaksyon. Lè w ajiste dite a, inifòmite nan -mwazi (WID) ak inifòmite nan-chip nan wafer la ka optimize, respektivman. Konsepsyon nan modèl la Groove dirèkteman afekte efikasite distribisyon an nan likid la polisaj. Groove radial la amelyore to retire materyèl la, pandan y ap Groove bag la optimize fini sifas la.
Pèfòmans pad polisaj la detèmine pa 7 endikatè debaz:
1.Dansite: Afekte degre nan deformation
2.Dite: kontwole efikasite fanm k'ap pile
3.Thickness: detèmine inifòmite presyon an
4.Groove modèl: optimize distribisyon likid
5.Groove paramèt: lajè / pwofondè afekte kapasite depo
6.Outer spesifikasyon dyamèt: bezwen yo dwe adapte ak gwosè a nan ekipman an
Konpozisyon ak estrikti nan pad polisaj an poliyiretàn
Kousinen polisaj an poliyiretàn anjeneral itilize segondè -an poliyiretàn pèfòmans kòm materyèl prensipal la. Poliyiretàn se yon kalite segondè polymère molekilè ak bon elastisite, rezistans mete ak estabilite chimik.
Estrikti li jeneralman gen ladan yon kouch polisaj ak yon kouch fè bak. Kouch polisaj la an kontak dirèk ak materyèl la poli epi li bezwen gen karakteristik apwopriye dite, brutality ak porosite pou reyalize efè polisaj efikas; kouch nan fè bak sitou jwe wòl nan sipòte ak repare kouch nan polisaj, pandan y ap ede transmèt presyon polisaj epi kenbe estabilite an jeneral nan pad la polisaj.
Karakteristik pèfòmans nan kousinen polisaj an poliyiretàn
Segondè Elastisite: li ka pi byen anfòm sifas objè a poli, e menm sifas koube konplèks yo ka poli respire, diminye presyon lokal la ki twò gwo oswa twò piti pandan pwosesis polisaj CMP, kidonk amelyore kalite polisaj la.
Segondè rezistans mete: Pandan pwosesis polisaj alontèm -, li ka kenbe pwòp fòm li yo ak pèfòmans epi li pa fasil pou mete, ki pwolonje lavi sèvis pad la polisaj epi redwi pri pou sèvi ak yo.
Segondè flatness: Li ka asire plat la nan sifas la poli, ki se esansyèl pou pwosesis la nan segondè -konpozan optik presizyon, chips semi-conducteurs, elatriye, epi li ka satisfè kondisyon yo strik pou presizyon sifas nan jaden sa yo.
Segondè estabilite: Anba diferan kondisyon anviwònman an (tankou chanjman tanperati ak imidite, elatriye), pad an polisaj an poliyiretàn ka toujou kenbe estabilite nan pèfòmans li yo epi asire konsistans nan efè a polisaj.